自20 世紀70 年代初，人們開始致力于液-質(zhì)聯(lián)用接口技術(shù)的研究。在開始的20 年中處于緩慢的發(fā)展階段，研制出了許多種聯(lián)用接口，但均沒有應(yīng)用于商業(yè)化生產(chǎn)。直到大氣壓離子化(atmospheric-pressure ionization, API)接口技術(shù)的問世，液-質(zhì)聯(lián)用才得到迅猛發(fā)展，廣泛應(yīng)用于實驗室內(nèi)分析和應(yīng)用領(lǐng)域。
液-質(zhì)聯(lián)用接口技術(shù)主要是沿著三個分支發(fā)展的:
(1)流動相進入質(zhì)譜直接離子化，形成了連續(xù)流動快原子轟擊(continuous-flow fast atom bombarment, CFFAB)技術(shù)等;
(2)流動相霧化后除去溶劑，分析物蒸發(fā)后再離子化，形成了"傳送帶式"接口(moving-belt interface)和離子束接口(particle-beam interface)等;
(3)流動相霧化后形成的小液滴解溶劑化，氣相離子化或者離子蒸發(fā)后再離子化，形成了熱噴霧接口(thermo spray interface)、大氣壓化學(xué)離子化(atmospheric pressure chemical ionization, APCI)和電噴霧離子化(electrospray ionization, ESI)技術(shù)等。有關(guān)液相質(zhì)譜的接口技術(shù)和LC-MS 技術(shù)的發(fā)展，Niessen 曾經(jīng)進行了較為詳細的綜述。
基體效應(yīng)
1基體效應(yīng)的來源
LC-MS中的基質(zhì)效應(yīng)現(xiàn)象初在1993年被發(fā)現(xiàn)，當改變樣品基質(zhì)的種類和濃度時，待測物電噴霧化質(zhì)譜的響應(yīng)值降低了。美國FDA2001年出版的《生物分析方法驗證準則》明確提出:在LC-MS分析方法開發(fā)和驗證過程中需要對基質(zhì)效應(yīng)進行評價。
基質(zhì)效應(yīng)是指樣品中除了待測物以外的其他基質(zhì)成分對待測物測定值的影響，它源自色譜分離過程中與被測物共流出的物質(zhì)對被測物離子化過程的影響，共流出干擾物可分為內(nèi)源性雜質(zhì)和外源性雜質(zhì)。
內(nèi)源性雜質(zhì)是指樣品提取過程中同時被提取出來的有機或無機分子，當這些物質(zhì)在共提取液中濃度較高，并與目標化合物共流出色譜柱進入離子源時，將嚴重影響目標化合物的離子化過程。外源性雜質(zhì)通常易被人們忽視，但也會帶來嚴重的基體效應(yīng)。這些干擾物由樣品前處理各步驟引入，文獻報道的主要包括的聚合物殘留、酞酸鹽、去污劑降解產(chǎn)物、離子對試劑、有機酸等離子交換促進劑、緩沖鹽或SPE小柱材料及色譜柱固定相釋放的物質(zhì)等。
2 基體效應(yīng)的補償
基體效應(yīng)的存在會嚴重影響對待測物的定量準確度和精密度，且影響因素多變，很難被*消除。近幾年來，致力于消除和補償基質(zhì)效應(yīng)的研究逐漸增多，主要包括優(yōu)化質(zhì)譜條件，優(yōu)化色譜分離體系，多步凈化措施，使用內(nèi)標物定量，采用基質(zhì)匹配標準曲線定量，回聲峰技術(shù)等。
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